簡介：

中芯啟恒SU-8 2000系列光刻膠是負性光刻膠，采用環(huán)戊酮溶劑配制而成，在超厚度膠膜涂布工藝中，圖案化的結構有較好的穩(wěn)定性和高分辨率，其膜厚范圍比任何其他市售光刻膠更廣泛，單次旋涂工藝膠膜厚度可選1-300um范圍，可根據需要進行多次旋涂，從而獲得更厚的膠膜。自2019年推出后，受到了同行業(yè)客戶的青睞，在MEMS微加工領域占據越來越多的市場份額。

中芯啟恒SU-8 2000系列光刻膠根據粘度不同，劃分為以下型號：

備注：不同膜厚可通過調節(jié)勻膠機轉速獲得，因客戶實驗設備不同，實際參數需進行微調。

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中芯啟恒SU-8-2000系列光刻膠推薦使用I線365nm紫外曝光，可選設備Cchip-0019型光刻機，也可使用電子束或X射線輻照。光刻膠中的光引發(fā)劑吸收光子發(fā)生化學反應，生成一種強酸，作用是在中烘或后烘過程中作為酸催化劑促進交聯(lián)反應的發(fā)生，只有曝光區(qū)域的光刻膠中才有強酸。后烘過程中，曝光區(qū)域在強酸的催化作用下，分子發(fā)生交聯(lián)。?環(huán)氧交聯(lián)發(fā)生在曝光后的烘烤步驟；一般工藝流程為：旋涂、軟烘、曝光、中烘、顯影。后烘或硬烘可以提高圖案的分辨率或消除因應力出現的裂紋，增加圖案與襯底的粘附力。

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