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企業(yè)特殊行業(yè)經(jīng)營(yíng)資質(zhì)信息公示
Cchip-0019型紫外光刻機(jī)主要用于常規(guī)微型器件、結(jié)構(gòu)的微細(xì)加工及微流體結(jié)構(gòu)、MEMS、雙向可控硅、聲表面波器件、大功率整流器及石英晶體諧振器等特種器件、結(jié)構(gòu)的雙面深度微細(xì)加工。此外,該設(shè)備還可作為相關(guān)實(shí)驗(yàn)設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校及研究所開展微細(xì)加工工藝研究。
(1)結(jié)合**的CCD圖像對(duì)準(zhǔn)技術(shù)、采用紫外LED平行光照明及手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)的總體設(shè)計(jì)思路,結(jié)構(gòu)新穎,整機(jī)性能優(yōu)越,曝光操作直觀、方便。
(2)掩模版取放倒置吸附、樣片取放采用推拉式基準(zhǔn)平板、真空吸附的方式,方便快捷,工作效率高。
(3)新穎的高精度、多自由度掩模-樣片精密對(duì)準(zhǔn)工件臺(tái)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使掩模-樣片的對(duì)準(zhǔn)精度及速度得到極大提高。
序號(hào) |
參數(shù)名稱 |
數(shù)值以及說(shuō)明 |
1 |
曝光面積 |
110mm×110mm |
2 |
曝光波長(zhǎng) |
365nm |
3 |
分辨力 |
0.8um |
4 |
對(duì)準(zhǔn)精度 |
±0.5um |
5 |
掩模尺寸 |
3英寸、4英寸、5英寸 |
6 |
樣片尺寸 |
2英寸、3英寸、4英寸,厚度0.1 mm—5 mm |
7 |
照明不均勻性 |
2% |
8 |
掩模相對(duì)于樣片運(yùn)動(dòng)行程 |
X:±5 mm Y:±5 mm q:±6° |
9 |
曝光光源 |
紫外LED,40mW |
10 |
曝光量設(shè)定 |
定時(shí)(***方式0.1~999.9任意設(shè)定) |
11 |
**膠厚 |
350 |
12 |
光源平行性 |
≤1.2° |
13 |
雙視場(chǎng)顯微鏡 |
0.5-4.5X |