?離子除臭工藝 系統(tǒng)要求采用離子法常溫氧化除臭工藝設(shè)備,工藝流程如下: 臭氣收集?臭氣輸送?過濾裝置?離子-光解一體化發(fā)生反應(yīng)系統(tǒng)裝置? 離心風(fēng)機?達標(biāo)后通過管路排放。 1)、離子除臭工藝是一種安全可靠的處理方法,其原理為離子活化臭氣分 子發(fā)生分解的直接反應(yīng)與活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應(yīng)相結(jié)合 的一種**氧化技術(shù),綜合利用了離子對惡臭物質(zhì)的破壞作用和氧對惡臭物質(zhì) 的氧化去除作用來去除惡臭氣體中的硫化氫、氨、甲硫醇等 VOC(揮發(fā)性有機 物)。 2)、污水所產(chǎn)生的臭氣經(jīng)臭氣收集系統(tǒng)收集后集中送至離子除臭裝置處 理,經(jīng)抽風(fēng)機作用后達標(biāo)排放,抽風(fēng)機與除臭裝置配合設(shè)計選型,并位于同一 個土建基礎(chǔ)上。 3)、賣方提供的離子除臭設(shè)備為成套裝置,必須是引用****的除臭技 術(shù)產(chǎn)品。并應(yīng)全面負責(zé)咨詢、設(shè)計、供貨、安裝、調(diào)試及操作培訓(xùn)、售后服務(wù) 等。 4)、處理系統(tǒng)的風(fēng)量設(shè)置必須滿足同時滿足規(guī)定的最小風(fēng)量的要求。 本項目選用離子法除臭設(shè)備需具有以下特點: ? 除臭系統(tǒng)主體部件離子發(fā)射裝置必須是原產(chǎn)地廠家生產(chǎn),設(shè)備性能先 進,質(zhì)量可靠。 ? 離子發(fā)生裝置設(shè)計科學(xué),風(fēng)阻小,能耗低; ? 系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)設(shè)計合理簡潔、占地面積小、運行成本低等顯著特點; ? 系統(tǒng)運行穩(wěn)定,抗沖擊負荷能力強,并可在確保排放達標(biāo)的前提下采用 經(jīng)濟運行模式,以降低運行成本; ? 系統(tǒng)運行方式可根據(jù)工況采用連續(xù)運行或間斷運行模式; ? 對環(huán)境無任何形式的二次污染; ? 系統(tǒng)主體設(shè)備使用壽命 10 年,離子發(fā)射管使用壽命大于 20000 小時。系統(tǒng)可采用自動化控制,無需專人值守;使用操作維護簡便。
高能離子-光催化氧化除臭一體機 污水廠廢氣處理設(shè)備