UV光解除臭設(shè)備是工業(yè)除臭的主力設(shè)備，采用高溫紫外線分解技術(shù)，對(duì)惡臭氣體進(jìn)行高溫分解，是高新技術(shù)產(chǎn)品，雖然問世時(shí)間較短，但是在工業(yè)除臭中的應(yīng)用非常廣泛。

UV光解除臭設(shè)備的原理是利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束對(duì)廢氣進(jìn)行照射與裂解，其主要的工作原理是使有機(jī)或無機(jī)高分子的廢氣化合物分子鏈，通過進(jìn)行高能紫外線的照射，進(jìn)而進(jìn)行降解轉(zhuǎn)變?yōu)榈头肿拥幕衔铩V光解除臭設(shè)備通常是效率比較高的光解氧化處理的方法，目前來說光解氧化的方法是工業(yè)惡臭廢氣處理技術(shù)中較為**的技術(shù)之一，而且“UV有效光解氧化模塊”的設(shè)備和開發(fā)還是有很大的優(yōu)勢的，例如考慮了工業(yè)惡臭廢氣性質(zhì)的不確定性和復(fù)雜性，為后期施工的設(shè)備、配套、安裝、調(diào)試、維護(hù)等方面提供了較大的靈活性與可靠性。