企業(yè)特殊行業(yè)經(jīng)營資質(zhì)信息公示
點擊圖片查看原圖PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200高級版
（PICOSUN™ ALD R-200 Advanced）
名稱：原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)地：芬蘭
Picosun簡介
Picosun是yi家全球公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產(chǎn)設(shè)施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設(shè)備專為高產(chǎn)量和高產(chǎn)量而設(shè)計，并且不斷發(fā)展以提高效率。Picosun適應(yīng)性強其客戶包括*** 大的電子制造商，小型的創(chuàng)新型挑戰(zhàn)者以及全球ling先的大學(xué)。 Picosun的組織機構(gòu)和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發(fā)工具具有du特的內(nèi)置可擴展性，可確保將研究結(jié)果平穩(wěn)過渡到大批量工業(yè)制造中，而不會出現(xiàn)技術(shù)差距。Picosun的熱情在于創(chuàng)新。當(dāng)您想與設(shè)備制造商共同創(chuàng)建定制的ALD解決方案，從而引ling行業(yè)發(fā)展時，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN®R-200高級
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā)，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學(xué)器件，珠寶，硬幣和醫(yī)療植入物。
群集工具，Picoflow™擴散增強劑，卷對卷室，RGA，UHV兼容性，N2發(fā)生器，氣體洗滌器，定制設(shè)計，用于惰性裝載的手套箱集成PICOSUN®R-200高級ALD系統(tǒng)是高級ALD研究工具；
（*）等離子發(fā)生器技術(shù)特點：
遠(yuǎn)程血漿源安裝到裝載室并與反應(yīng)室連
出色性能的適用于不同化學(xué)性質(zhì)的藍(lán)寶石涂藥器
商用微波等離子體發(fā)生器，具有300 – 3000 W可調(diào)功率，2.45 GHz頻率
保護(hù)氣體在中間空間中流動（無等離子體物質(zhì)的反向擴散）
在相同的沉積過程中，等離子體和熱ALD循環(huán)的可能性，而無需對系統(tǒng)進(jìn)行硬件更改
技術(shù)指標(biāo)
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襯底尺寸和類型 |
50 – 200 mm /單片 |
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***大可沉積直徑150 mm基片，豎直放置，10-25片/批次（根據(jù)工藝） |
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156 mm x 156 mm 太陽能硅片 |
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3D 復(fù)雜表面襯底（使用Showerhead噴灑淋浴模式效果更佳） |
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粉末與顆粒（配備擴散增強器） |
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多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品 |
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工藝溫度 |
50 – 500 °C, 可選更高溫度（真空腔體外壁不用任何冷卻方式即可保持溫度低于60 °C） |
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基片傳送選件 |
氣動升降（手動裝載） |
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預(yù)真空室安裝磁力操作機械手（Load lock ） |
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前驅(qū)體 |
液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源 |
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4根du立源管線，***多加載6個前驅(qū)體源 |
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對蒸汽壓低的前驅(qū)體(1mbar~10mbar)，用氮氣等載氣導(dǎo)入前驅(qū)體瓶內(nèi)引出 |
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重量 |
350kg |
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尺寸（ W x H x D)） |
取決于選件 |
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***小146 cm x 146 cm x 84 cm |
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***大189 cm x 206 cm x 111 cm |
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選件 |
PICOFLOW™擴散增強器，集成橢偏儀，QCM， RGA，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計，手套箱集 |
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成（用于惰性氣體下裝載）。 |
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驗收標(biāo)準(zhǔn) |
標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝 |
