Centrotherm 高溫退火/氧化系統(tǒng)-Activator/Oxidator  150

Centrotherm 高溫退火爐系統(tǒng)-Activator 150

一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Centrotherm Activator 150 高溫爐設(shè)計(jì)用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm獨(dú)特工藝爐管和加熱系統(tǒng)設(shè)，允許工藝溫度達(dá)到 1850 ℃。

此外，Activator 150 系列的產(chǎn)品可以實(shí)現(xiàn)生長(zhǎng)石墨烯生長(zhǎng)。通過(guò)碳化硅升華生長(zhǎng)石墨層可以獲得高性能器件。

Centrotherm 新一代SiC工藝爐管的研發(fā)用以滿足新興的150 毫米 SiC工藝。

Centrotherm Activator 150-5 是為研發(fā)工作而特制的，而Centrotherm Activator 150-50專為大批量生產(chǎn)設(shè)計(jì)。

廣泛的工藝范圍實(shí)現(xiàn)了對(duì)自定義化程序的優(yōu)化, 例如溫度, 氣路系統(tǒng)和壓力。

二、典型應(yīng)用

SiC器件高溫退火 （注入后）

GaN器件退火

大面積石墨烯生長(zhǎng)

SiC表面制備

三、產(chǎn)品特性

性能和優(yōu)勢(shì)

高活化效率

最小表面粗糙度

**溫度可達(dá) 1850 ℃

占地面積小 [1.8m2]

升溫速率可達(dá) 100 K/min

批處理晶片尺寸包括 2″、3″、4″、6″

批處理數(shù)量達(dá)到 40片2″/或3″硅片, 50片4″/或6″硅片

真空度小于10-3 mbar （可選）

可并排安裝

選項(xiàng)

上下料腔室微環(huán)境控制

自動(dòng)機(jī)械手裝片

測(cè)溫?zé)崤?/p>