HERCULES??NIL ??Fully Integrated SmartNIL??UV-NIL Systems

HERCULES?NIL??完全集成的SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)

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EVG的HERCULES?NIL產(chǎn)品系列：

HERCULES?NIL完全集成的SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)，**200 mm

HERCULES?NIL完全模塊化和集成式SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)，**300 mm

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HERCULES?NIL完全集成的SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)，**200 mm；完全集成的納米壓印光刻解決方案，適用于大批量生產(chǎn)，具有EVG專有的SmartNIL?壓印技術(shù)

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HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟蹤解決方案，適用于**200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的**成員。 HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái)，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。

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為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟郵票的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印郵票制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保**的缺陷率和**質(zhì)量的原版復(fù)制。

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通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在全面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。??*根據(jù)ISO 14644

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特征

批量生產(chǎn)最小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)

結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂覆/烘烤/冷卻）和SmartNIL?

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度

全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可**程度地重復(fù)使用工作印章

包括工作印章制造能力

高功率光源，固化時(shí)間最快

優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量

*分辨率取決于過程和模板

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HERCULES?NIL完全模塊化和集成式SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)，**300 mm

包含EVGSmartNIL?技術(shù)的完全模塊化平臺(tái)，可支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術(shù)

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生產(chǎn)應(yīng)用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟蹤系統(tǒng)，在單個(gè)平臺(tái)上將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG的專有SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一起，用于直徑**為300 mm的晶片。這是**個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供**的自由度來配置他們的系統(tǒng)，以**地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

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HERCULES NIL 300 mm提供了市場上**進(jìn)的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。

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特征

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離：最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

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技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）100至200毫米/ 200和300毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL?

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曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準(zhǔn)：≤±3微米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

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EVG?770???Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System

EVG?770???分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)

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分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作

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技術(shù)數(shù)據(jù)

EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從**50 mm x 50 mm的小模具到**300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

EVG770的主要功能包括**的對準(zhǔn)功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。

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特征

高效的晶圓級光學(xué)微透鏡主制造，直至SmartNIL?的納米結(jié)構(gòu)

簡單實(shí)施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償

可選的自動(dòng)盒帶間處理

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技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）100至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

**印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長達(dá)50 x 50毫米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

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IQ Aligner???Automated UV Nanoimprint Lithography System

IQAligner????自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

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用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

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技術(shù)數(shù)據(jù)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí)。

EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放郵票的釋放機(jī)制。

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特征

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場納米壓印應(yīng)用

三個(gè)獨(dú)立控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個(gè)獨(dú)立控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ對準(zhǔn)器

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技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）150至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動(dòng)分離：支持的

前處理

涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制

可選的：

工作印章制作：支持的；