甲基磺酸 75-75-2 簡稱MSA  CH4O3S   

中文同義詞 ;甲磺酸；烷基磺酸

英文名稱Methanesulfonic acid

分子量96.11

熔點17-19°C(lit.)沸點167°C/10mmHg(lit.)

密度1.475-1.485g/mLat20°C1.481g/mLat25°C(lit.)

蒸氣密度3.3(vsair)蒸氣壓1mmHg(20°C)

折射率n20/D1.429(lit.)閃點>230°F

儲存條件2-8°C

穩(wěn)定性：穩(wěn)定的。濕氣敏感。與胺、堿、水、普通金屬不相容。

物化性質：無色透明液體，長時間存儲可能顏色變深 。   溶解： 與水混溶，20°C時可溶1,000g/L 。與苯和甲苯輕微混溶。與石蠟不混溶。 溶于水

70%濃度甲基磺酸（水溶液）主要應用于電化學、半導體、集成電路芯片及精密儀器和設備的金屬表面處理等領域，在電鍍錫和電鍍錫鉛合金方面是取代硫酸和氟硼酸、酚磺酸的理想材料，解決了原工藝環(huán)境污染嚴重的問題。

產品特點如下：1.甲基磺酸型的光亮純錫電鍍，鍍層結晶細致，均勻，呈光亮銀白色，具有良好的可焊性，適用于電子行業(yè)。

2.該電鍍液具有較高的電鍍速度，較寬的電流密度范圍，較快的沉積速度，良好的深鍍能力。

3.經標準老化試驗或長期存放后，仍能保持良好的焊接性能。

4.不含氟硼酸，廢水處理容易，腐蝕性低，利于環(huán)保。

在集成電路電鍍中是理想的整平劑和光亮劑，并廣泛應用于礦山恢復無害化治理領域。

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