企業(yè)特殊行業(yè)經(jīng)營資質(zhì)信息公示
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用途：
高純鎢靶和高純鎢鈦合金靶、鎢硅復(fù)合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復(fù)雜和高性能的薄膜材料。由于高純鎢或超純鎢（5 N或6 N）具有對電子遷移的高電阻、高溫穩(wěn)定性以及能形成穩(wěn)定的硅化物，在電子工業(yè)中常以薄膜形式用作柵極、連接、過渡和障礙金屬。超高純鎢及其硅化物還用于超大規(guī)模集成電路作為電阻層、擴(kuò)散阻擋層等以及在金屬氧化物半導(dǎo)體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽能電池的過渡金屬層。
規(guī)格：
名稱 | 分子式 | 規(guī)格 | 尺寸 | 相對密度 | 晶粒度 | 缺陷率 | |
純鎢靶 | W | 4N（99.99%） | 英寸 | 毫米 | ≥99% | ≯50μm | 0 |
5N（99.999%） | D（6,8,10,12） H（0.25,0.5,0.75） | 徑150～350 厚度6～25 | |||||
鎢鈦靶 | WTi10 | 4N（99.99%） | ≥99% | ≯50μm | 0 | ||
4N5（99.995%） | |||||||
化學(xué)成分
規(guī)格等級 化學(xué)指標(biāo) | W/(W+Ti)≥99.99% | W/(W+Ti)≥99.995% | W≥99.999% | |||||||||
痕量雜質(zhì)總和 | ≯100 ppm | ≯50 ppm | ≯10 ppm | |||||||||
雜質(zhì)指標(biāo)(ppm) | *大值 | 典型值 | *大值 | 典型值 | *大值 | 典型值 | ||||||
放射性元素 | U | — | 0.2 | 0.1 | 0.05 | 0.0008 | 0.0005 | |||||
Th | — | 0.2 | 0.1 | 0.05 | 0.0008 | 0.0005 | ||||||
堿金屬元素 | Li | 1 | 0.05 | 0.02 | 0.01 | 0.01 | 0.003 | |||||
Na | 5 | 1 | 0.5 | 0.2 | 0.1 | 0.05 | ||||||
K | 5 | 1 | 0.1 | 0.05 | 0.05 | 0.03 | ||||||
Mo，Re | 10 | 5 | 10 | 5 | 1 | 0.5 | ||||||
Fe，Cr | 10 | 5 | 5 | 3 | 0.5 | 0.3 | ||||||
Ca，Si，Cu，Ni，Al，Zn，Sn，Mn，Co，Hg，V | 2 | 1 | 0.5 | 0.3 | 0.2 | 0.2 | ||||||
P，As，Se | 2 | 1 | 0.5 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | ||||||
B，Pb，Sb，Be，Ba，Bi，Cd，Ge，Nb，Pt，Mg，Zr，Au，In，Ga，Ag | 1 | 0.5 | 0.5 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | ||||||
其它所有單個元素 | 1 | 0.5 | 0.5 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | ||||||
氣體分析 （≯，ppm） | O | C | N | H | S | |||||||
30 | 20 | 20 | 20 | 10 | ||||||||
根據(jù)使用目的不同，對高純鎢靶和鎢鈦靶雜質(zhì)含量有不同要求，一般要求化學(xué)純度在99.99%～99.999%之間，我們也可根據(jù)用戶要求特別定制適合應(yīng)用的其它規(guī)格。
