企業(yè)特殊行業(yè)經(jīng)營(yíng)資質(zhì)信息公示
點(diǎn)擊圖片查看原圖光學(xué)激光系統(tǒng)低頻防震臺(tái)/減震臺(tái)/隔振臺(tái)
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光學(xué)顯微鏡、激光干涉儀、輪廓儀低頻防震臺(tái)/減震臺(tái)/隔振臺(tái)
激光和光學(xué)系統(tǒng)，無(wú)論是在學(xué)術(shù)實(shí)驗(yàn)室中使用還是在工業(yè)環(huán)境中，都非常容易受到來(lái)自環(huán)境的振動(dòng)的影響。這些儀器幾乎總是需要隔振。傳統(tǒng)上，大型空氣表已經(jīng)成為光學(xué)系統(tǒng)的**系統(tǒng)。這種情況已經(jīng)不再是這樣了。根據(jù)振動(dòng)頻率，負(fù)K隔離器提供空氣表性能的10-100倍。它們不需要空氣或電力，而且緊湊，易于移動(dòng)。一些用戶需要用面包板提供的螺紋孔陣列。在這種情況下，很容易在我們的防振隔離器上安裝一個(gè)面包板。在兩個(gè)或多個(gè)隔離器上放置一個(gè)較大的面包板也是常見的。
基于激光的干涉儀是非常靈敏的裝置，能夠解決納米尺度的運(yùn)動(dòng)/特征。它們通常具有非常長(zhǎng)的機(jī)械路徑，這使得它們對(duì)振動(dòng)更加敏感。**的現(xiàn)代橢圓偏振測(cè)量技術(shù)，允許這種高性能依賴于低噪聲能夠檢測(cè)條紋運(yùn)動(dòng)。適當(dāng)?shù)馗綦x干涉儀將允許它提供盡可能高的分辨率。
光學(xué)輪廓儀對(duì)振動(dòng)具有相似的敏感性。阻止來(lái)自典型的長(zhǎng)光路的外部振動(dòng)，改進(jìn)的靈敏度和更可靠的測(cè)量。不再需要在夜晚做最敏感的測(cè)量。
光學(xué)元件系統(tǒng)通常相當(dāng)復(fù)雜。長(zhǎng)的光路可以導(dǎo)致振動(dòng)的角度放大。通常使用的光學(xué)氣動(dòng)工作臺(tái)會(huì)使問(wèn)題變得更糟，因?yàn)樗鼈兊墓舱耦l率常常與地板振動(dòng)的共振頻率相匹配。我們的1/2赫茲隔離器提供隔離在這些環(huán)境中，當(dāng)空氣表根本不能。
相關(guān)設(shè)備領(lǐng)域：
光學(xué)干涉儀
光學(xué)輪廓儀
熒光光學(xué)顯微鏡
共聚焦激光掃描顯微鏡
NSOM SNOM：近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡
TIFRM：全內(nèi)反射熒光顯微鏡
SEM:掃描電子顯微鏡
AFM：原子力顯微鏡
SPM:掃描探針顯微鏡
STM:掃描隧道顯微鏡
TEM:透射電子顯微鏡
SEM:掃描電子顯微鏡
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隔振臺(tái)重量：約36kg，規(guī)格：610mm W x 572mm D x 216mm H 支架重量：25kg，規(guī)格：610mm W x 610mm D x 584mm H |
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產(chǎn)品型號(hào)： |
承載重量： |
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100WS-1 |
60 - 100 lb (27 - 48 kg) |
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150WS-1 |
90 -1 55 lb (41 -70 kg) |
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250WS-1 |
180 - 270 lb (82 - 123 kg) |
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350WS-1 |
290 - 370 lb (132 - 168 kg) |
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500WS-1 |
360 - 525 lb (164 -239 kg) |
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650WS-1 |
500 - 680 lb (227 - 309 kg) |
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重量：約90lb（41kg） 規(guī)格：略大 |
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850WS-1 |
630 - 900 lb (285 - 408 kg) |
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1000WS-1 |
890 - 1050 lb (403 - 476 kg) |
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性能：整個(gè)載荷范圍內(nèi)均可達(dá)到1/2 Hz的垂直頻率或更低。 水平頻率取決于載荷，額定載荷或接近額定載荷時(shí)可達(dá)1/2 Hz或更低。 |
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產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：隔振效果通常比高性能空氣隔振系統(tǒng)高出10-100倍； |
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典型性能曲線圖：
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減震臺(tái)：光學(xué)激光系統(tǒng)防震臺(tái)
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圖1:Sensofar Lynx Profiler on Minus K BM-8
圖2:Park Systems XE-70 AFM on Minus K
圖3:Laser Interferometer scanning piston pins on the production line supprted by a Minus K BM-10
圖4:Coordinate Measuring Machine (CMM) with Laser Interferometer within production a line stablized on Minus K BM-10
