centrotherm Activator 150 高溫爐生產(chǎn)線專為硅-碳化合物（SiC）或鎵-氮化合物（GaN） 設(shè)備的后植入燒結(jié)而設(shè)計(jì)開發(fā)。Activator 150 可用于多種類型爐體， 如研發(fā)爐和批量生產(chǎn)爐， 且處理靈活性高。centrotherm 的無(wú)金屬加熱裝置的獨(dú)特設(shè)計(jì)允許處理溫度高達(dá) 1850 °C 同時(shí)縮短了工藝循環(huán)時(shí)間。由于占據(jù)空間小、購(gòu)置成本低，所以 Activator 150 可實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)具有成本效益。

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特點(diǎn)：

高活化率

表面粗糙程度最小

溫度*達(dá) 1850°C

批量規(guī)模高達(dá) 50硅片（150mm）

加熱率*達(dá) 150 K/min

通過(guò)SiH4可實(shí)現(xiàn)硅“過(guò)壓

Oxidator150-高溫氧化爐

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Oxidator 150 高溫爐由 centrotherm thermal solutions 設(shè)計(jì)開發(fā)，專門用于硅-碳化合物（SiC）的氧化處理。設(shè)備*可承受 1400°C 的工藝溫度，氧化工藝使用 O2、N2O、NO、NO2 或濕法氧化氣體，靈活性和工藝質(zhì)量**。

Oxidator 150 裝有非金屬加熱裝置和雙真空，是當(dāng)前市場(chǎng)上最安全的毒性氣體氧化爐。

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技術(shù)參數(shù)：?

批量處理 2“、3“、100 mm 和 150 mm 硅片或任何其它組合
*加熱率可達(dá) 7.5 K/min
批量規(guī)模高達(dá) 50片硅片（150 mm）
工藝壓力：850 mbar 至常壓下

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