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EVG公司成立于1980年,公司總部和制造廠位于奧地利,在美國、日本和臺灣設有分公司,并在其他各地設有銷售代理及售后服務部,產品和服務遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導體制造設備的全球供應商,其豐富的產品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數千臺設備安裝在世界各地,被廣泛地應用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導體器件和功率器件等領域。
EVG公司是世界上**的基片鍵合設備制造商,其鍵合工藝被認定為MEMS領域的標準工藝。EVG鍵合系統(tǒng)可實現(xiàn)陽極鍵合、熱壓鍵合、中間層粘著鍵合、 玻璃漿料鍵合、硅-硅直接鍵合、共晶鍵合及SOI鍵合等所有鍵合工藝。EVG鍵合設備型號齊全,從手動裝片系統(tǒng)到全自動片盒送片多工藝室系統(tǒng),可以滿足不同客戶的應用要求。無論手動/半自動裝片系統(tǒng), 鍵合工藝全部自動完成;而且,獨特的基片夾具及鍵合室結構設計,可實現(xiàn)高精度的圓片鍵合;此外上/下極板為獨立分別加熱控制,*加熱溫度可達650度。
EVG501是一款主要用于研發(fā)的高度靈活的鍵合系統(tǒng),既可以處理很小的碎片也可以處理200mm的晶圓。可以支持各種形式的鍵合,如陽極鍵合、玻璃焊料鍵合、共晶、擴散、融合、焊接和粘結鍵合;也可以支持其他熱處理過程如氧化物移除和高溫烘烤等。EVG501在夾具更換時非常方便,更換時間一般不超過5分鐘,大大減少了客戶的操作時間和培訓費用,因此EVG501是一款非常適合研發(fā)和小量生產的設備。
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二、應用范圍
主要應用于MEMS制造、微流體芯片、化合物半導體的薄片處理、晶圓級**封裝以及3D互聯(lián)、TSV工藝等。
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三、主要特點
u?*化降低客戶總擁有成本(TCO)
u?*鍵合溫度450度,壓力10KN
u?**的硅片低壓契型補償系統(tǒng)以提高良率
u?溫度均勻性:?<+/- 1% ;壓力均勻性:<+/-?5%
u?工藝菜單與其他鍵合系統(tǒng)通用
u?高真空度鍵合腔室?(可低至?10-5?mbar,使用分子泵)
u?開放式腔室設計便于快速轉換和維護
u?基于Windows 的控制軟件和操作界面
u?最小化占地占地面積---?200 mm鍵合系統(tǒng)占地?0.88 m2
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四、技術參數
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加熱器尺寸=*晶片尺寸(mm) |
150mm 或200mm |
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最小硅片直徑 |
150mm加熱器:單一小片或碎片;200mm加熱器:100mm |
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鍵合卡盤/對準系統(tǒng) |
150mm加熱器 |
EVG610,EVG620,EVG6200 |
200mm加熱器 |
EVG6200,MBA300,Smartview |
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鍵合腔 |
*接觸壓力 |
3.5KN,10KN,20KN |
*溫度 |
450℃ |
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真空度 |
0.1mbar(標配),1E-5(可選) |
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陽極鍵合功率 |
0-2000V,0-50A |
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腔室個數 |
1 |
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上料腔室 |
手動 |
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工藝菜單 |
與其他鍵合設備兼容 |
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