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主營(yíng):?光掩膜基版|?勻膠鉻版|?真空濺射鍍膜| 光刻涂膠 玻璃拋光
光掩膜基版(勻膠鉻版、空白光罩)的詳細(xì)描述:
?????勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是當(dāng)前及未來(lái)微細(xì)加工光掩膜制作的主流感光材料(相當(dāng)于照相用的感光膠卷)。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過(guò)直流磁控濺射(SP)沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版,再在其上涂敷一層光致抗蝕劑(又稱光刻膠)或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。光掩膜基版是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過(guò)光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。簡(jiǎn)單地說(shuō),光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版。
勻膠鉻版具有高的感光靈敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn),當(dāng)前被廣泛應(yīng)用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等產(chǎn)品掩膜版的制作。