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主營：?光掩膜基版|?勻膠鉻版|?真空濺射鍍膜| 光刻涂膠 玻璃拋光
光掩膜基版（勻膠鉻版、空白光罩）的詳細描述：
?????勻膠鉻版是一種硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料（相當于照相用的感光膠卷）。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射（SP）沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑（又稱光刻膠）或電子束抗蝕劑制成勻膠鉻版。光掩膜基版是制作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。簡單地說，光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版。
勻膠鉻版具有高的感光靈敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清潔處理、使用壽命長等特點，當前被廣泛應(yīng)用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等產(chǎn)品掩膜版的制作。
