設(shè)備簡(jiǎn)介：

PECVD（等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）技術(shù)是借助于等離子體的輝光放電使得含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜生長(zhǎng)的一種制備技術(shù)，主要用于硅的氧化物或者氮化物的沉積；高溫爐采用的是高純硅碳棒加熱的原理，可以實(shí)現(xiàn)高溫?zé)Y(jié)，適用于大多數(shù)材料的熱處理以及熔煉工藝，整體采用國際**制造工藝，并且從美學(xué)藝術(shù)角度出發(fā)，根據(jù)人體安全的角度進(jìn)行設(shè)計(jì)。它采用PLC控制，觸摸屏操作。

主要特點(diǎn)：

1、高溫?zé)Y(jié)。

2、控制穩(wěn)定可靠，操作方便，安全防護(hù)措施完善。

3、采用**的PID自學(xué)習(xí)模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。

4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料，保溫效果更好，節(jié)能降耗。

5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能（WIFI），可通過手機(jī)、電腦遠(yuǎn)程對(duì)設(shè)備進(jìn)行監(jiān)控，操作。

6、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能，可保存燒結(jié)的重要參數(shù)，時(shí)長(zhǎng)達(dá)30天之久（每天開機(jī)8小時(shí)）。

7、配方功能，可預(yù)存配方20條以上。

8、聯(lián)網(wǎng)功能，通過RJ45接口，采用TCP/IP協(xié)議，可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連（上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件）。

服務(wù)支持：一年有限保修，提供終身支持。