1鉬靶材:鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。
鉬靶材純度:99.9% ,99.99%
規(guī)格:圓形靶,板靶,旋轉(zhuǎn)靶
鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè),適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。
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鉬靶材鉬元靶鉬方靶鉬方帶孔靶材
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1鉬靶材:鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點(diǎn)2610℃。沸點(diǎn)5560℃。 鉬靶材純度:99.9% ,99.99% 規(guī)格:圓形靶,板靶,旋轉(zhuǎn)靶 鉬靶材廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜等行業(yè),適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。 |