產(chǎn)品形態(tài)：

鎢 / 鎢鈦 / 鎢硅靶材，形狀可定制

純度：鎢99.95%以上

密度：19.35g/cm3

表面狀態(tài)：磨光或堿洗

純度：鎢（上至5N）/ 鎢鈦（上至4N5）/ 鎢硅（上至4N5）鎢靶材是一種以鎢為原料制成的材料，通常用于制造電子器件、真空鍍膜等。鎢靶材具有高純度、高密度、高硬度、耐高溫等特性，因此在許多領(lǐng)域都有廣泛的應用前景。

在電子器件制造中，鎢靶材可以用于制造電子管、晶體管、集成電路等。由于鎢靶材具有高純度、高密度等特性，可以保證電子器件的性能穩(wěn)定性和可靠性。

在真空鍍膜中，鎢靶材可以作為蒸發(fā)源，用于制造各種薄膜材料。由于鎢靶材具有高硬度、耐高溫等特性，可以保證薄膜材料的性能穩(wěn)定性和可靠性。

總之，鎢靶材是一種具有廣泛應用前景的材料，未來隨著技術(shù)的不斷進步和應用領(lǐng)域的不斷拓展，鎢靶材的需求量也將會不斷增加。

注意：靶材的純度、密度、微觀結(jié)構(gòu)、內(nèi)部質(zhì)量、焊接質(zhì)量、外觀質(zhì)量和幾何尺寸等對鍍膜好壞有著重要的影響。