科研實驗專用氧化銦靶材In2O3靶材磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產品介紹

        氧化銦（In2O3）為白色或淡黃色無定型粉末，加熱轉變?yōu)榧t褐色；是一種新的n型透明半導體功能材料，具有較寬的禁帶寬度、較小的電阻率和較高的催化活性，在光電領域、氣體傳感器、催化劑方面得到了廣泛應用。而氧化銦顆粒尺寸達納米級別時除具有以上功能外，還具備了納米材料的表面效應、量子尺寸效應、小尺寸效應和宏觀量子隧道效應等。電阻式觸摸屏中經常使用的原材料，主要用于熒光屏、玻璃、陶瓷、化學試劑等。近年來大量應用于光電行業(yè)等高新技術領域和軍事領域，特別適用于加工為銦錫氧化物(ITO)靶材，制造透明電極和透明熱反射體材料，用于生產平面液晶顯示器和除霧冰器。

產品參數(shù)

中文名 氧化銦      分子式 In2O3             分子量 277.63400

沸點 850℃          熔點 2000℃                密度 7.179g/ml

支持合金靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價?。?nbsp;

服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊睿|量保證，售后無憂！

產品附件：發(fā)貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備 

質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫