清洗對象：本設(shè)備適用于2”-8”晶片清洗

(1)超聲清洗,加熱清洗為單槽定時控制,到時給予結(jié)束提示音

(2)工藝過程:上料-支離子水超聲清洗-去離子水加熱清洗-去離子水沖洗-下料

本設(shè)備為柜體式,操作面帶有透明門窗

(1)槽體材料為德國進(jìn)口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國磁白色PP板,外型美觀實(shí)用

(2)設(shè)備超聲,加熱清洗時間由定時器控制

(3)加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器

(4)每個清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動方式

(5)配有可調(diào)節(jié)式的排風(fēng)裝置

(6)配有美國進(jìn)口氮?dú)鈬姌?/p>

電控部分采用密封保護(hù)方式配有緊急停機(jī)及報警裝置

設(shè)備制造：江蘇英思特半導(dǎo)體科技有限公司