企業(yè)特殊行業(yè)經(jīng)營(yíng)資質(zhì)信息公示
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KRI 考夫曼離子源 KDC 75上海伯東代理美國(guó)原裝進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 75: 緊湊柵極離子源, 離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用, KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 250 mA.
KRI 考夫曼離子源 KDC 75 技術(shù)參數(shù)通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實(shí)現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.
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型號(hào) |
KDC 75 / KDC 75L(低電流輸出) |
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供電 |
DC magnetic confinement |
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- 陰極燈絲 |
2 |
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- 陽(yáng)極電壓 |
0-100V DC |
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電子束 |
OptiBeam™ |
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- 柵極 |
專用, 自對(duì)準(zhǔn) |
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-柵極直徑 |
7.5 cm |
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中和器 |
燈絲 |
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電源控制 |
KSC 1212 或 KSC 1202 |
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配置 |
- |
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- 陰極中和器 |
Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 |
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- 安裝 |
移動(dòng)或快速法蘭 |
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- 高度 |
7.9' |
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- 直徑 |
5.5' |
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- 離子束 |
聚焦 |
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-加工材料 |
金屬 |
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-工藝氣體 |
惰性 |
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-安裝距離 |
6-24” |
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- 自動(dòng)控制 |
控制4種氣體 |
* 可選: 一個(gè)陰極燈絲; 可調(diào)角度的支架KRI 考夫曼離子源 KDC 75 應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)R鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD表面改性, 激活 SM離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD離子蝕刻 IBEKRi KDC 考夫曼離子源典型案例:設(shè)備: e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)離子源型號(hào): KDC 75應(yīng)用: IBAD 輔助鍍膜, 在玻璃上鍍上高反射率膜 (光柵的鍍膜)離子源對(duì)工藝過(guò)程的優(yōu)化: 無(wú)需加熱襯底, 對(duì)溫度敏感材料進(jìn)行低溫處理, 簡(jiǎn)化反應(yīng)沉積
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