在光刻膠的去除應(yīng)用中，微波等離子清洗機(jī)可以相當(dāng)容易完成，而且完成效果很好。 微波等離子清洗楊相比其他技術(shù)形式的等離子清洗方式，有著一致性高，對(duì)產(chǎn)品無(wú)害，清洗徹底的優(yōu)點(diǎn)。

等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。