工業(yè)生產(chǎn)中的清洗概念很廣，包括任何與去除污染物有關(guān)的工藝，在不破壞材料表面特性的前提下，有效地清除殘留在材料上的微塵，有機(jī)雜物及金屬離子?，F(xiàn)等離子清洗機(jī)通過對樣品表面進(jìn)行改性（親水性），同時除掉表面有機(jī)物，使多種材料之間能夠進(jìn)行貼合、涂覆、鍍膜等工藝操作。從研究開發(fā)到工藝生產(chǎn)使用，從表面微細(xì)加工到表面處理改質(zhì)效果都非常好，應(yīng)用廣泛。

如今應(yīng)用研究于物理化學(xué)清洗的方法，大致分為兩類：干法清洗和濕法清洗。隨著科技的發(fā)展，濕法清洗由于對環(huán)境的影響及原材料的消耗，越來越受到局限不適應(yīng)于現(xiàn)代科技的高速發(fā)展，而干法清洗能夠避免濕法清洗帶來的環(huán)境污染，處理過程中無污染，無廢水產(chǎn)生，同時大大提高產(chǎn)品的生產(chǎn)率。

等離子體清洗機(jī)是一種全新的高新科技技術(shù)，在干法清洗中的優(yōu)勢尤為明顯。利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果，通過改變材料表面的物理結(jié)構(gòu)或化學(xué)組分，使材料的性能得以顯著改善和提高，對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體清洗機(jī)處理材料后表面性能持久穩(wěn)定，保持時間長。

等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面改性設(shè)備就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)改性、清潔、涂覆、光刻膠灰化等目的。

等離子清洗機(jī)的原理：

用空氣或氧氣等離子體中進(jìn)行活化，塑料聚合物的非極性氫鍵被氧鍵替代，為表面提供自由價電子與液體分子結(jié)合，從而提高“非粘合性”塑料具有很好的粘合性和可噴涂性。在真空等離子體中，除了空氣和氧氣之外還可以使用其他氣體，這些氣體能夠在氧氣的位置吸附氮?dú)狻奉惢蛘唪驶鳛榉磻?yīng)性基團(tuán)。

◆ 等離子清洗機(jī)能處理的產(chǎn)品有：

金屬、PE、PP、PVF2、PVC、PT、LDPE、鐵氟龍等材料、連接器、線材、玻璃鏡片、汽車百葉窗和氖燈、鹵天燈的反光鏡處理等等

◆ 等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域：

金屬---去除金屬表面的油脂,油污等有機(jī)物及氧化層

金屬表面常常會有油脂、油污等有機(jī)物及氧化層，在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、健合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子處理來得到完全潔凈和無氧化層的表面。

 汽車制造---用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理

紡織品生產(chǎn)---用于紡織品,濾網(wǎng)和薄膜的親水性,疏水性和表面改性處理

生物醫(yī)療---培養(yǎng)皿提高活性，血管支架，注射器，導(dǎo)管和各種材料的親潤，交合涂覆前處理。

航空航天---絕緣材料，電子元件等表面涂覆前處理

電子---線路板的清洗和蝕刻。膠片，PP等材料的無氧化和活化處理，改進(jìn)可焊性

半導(dǎo)體行業(yè)---晶圓加工及處理去除光刻膠，封裝前預(yù)處理

LED---支架清洗封裝前預(yù)處理

 塑料橡膠---提高PS，PE，PTFE，TPE，POM，AS和PP等材料表面活性，使其利于粘接，印刷。

◆ 灰化表面有機(jī)層

-表面會受到物理擊和化學(xué)處理

◆ 等離子清洗機(jī)廣泛用于：

1．等離子表面活化/清洗； 2.等離子處理后粘合； 3. 等離子蝕刻/活化； 4. 等離子去膠； 5. 等離子涂鍍(親水,疏水)； 6. 增強(qiáng)邦定性； 

7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場合。

通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

等離子清洗機(jī)，英文叫（Plasma Cleaner）又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面清洗機(jī)、等離子體清洗機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂。等離子清洗，是干法清洗中**常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體清洗的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體清洗工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設(shè)計的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。