低散亂平行平面基板 OPSQSP/OPCFSP/OPMFSP/WSSQSP/WSCFSP/WSMFSP

通過對平行平面基板和楔形基板進(jìn)行特殊的拋光，表面粗糙度控制在0.2nm（Ra）以下。

可以作為需要減少基板的散射影響的高能量激光用反射鏡或X線用反射鏡的基板使用。

?楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時(shí)。

?CaF2（氟化鈣），MgF2（氟化鎂）在紫外譜區(qū)和紅外譜區(qū)具有較高的透過性。

?表面粗糙度（微觀的凹凸）和面型精度（面整體的平坦程度）都進(jìn)行了高精度加工，基板接近理想平面。

注意

?低散射基板的兩面都沒有鍍膜。玻璃表面存在2.5％?4％的反射。

?透過楔形基板使用時(shí)，光束會有0.5°左右的傾斜。

?CaF2表面很容易受損，不能用紙擦拭。請使用清潔用壓縮氣罐去除灰塵。

?CaF2，MgF2長時(shí)間放置在高濕度的環(huán)境下時(shí)，表面會變得粗糙。不使用

時(shí)，請保管在自動干燥箱等濕度較低的環(huán)境中。