1. 高溫穩(wěn)定性：鉬在高溫下具有較好的穩(wěn)定性，能夠適應MOCVD工藝的溫度環(huán)境。

　　2. 良好的導熱性：鉬的導熱性能良好，有助于降低設備內部的溫度，避免熱量累積造成的不良影響。

　　3. 耐腐蝕性：鉬具有較好的耐腐蝕性，能夠有效抵抗氣體腐蝕，延長設備的使用壽命。

　　4. 熱膨脹系數適中：鉬的熱膨脹系數適中，與MOCVD工藝所需的材料相匹配，不會產生因熱膨脹系數不同而導致的界面應力產生和疲勞問題。

　　5. 優(yōu)異的電性能：鉬具有較好的電性能，能夠滿足MOCVD工藝的電氣要求。

　　6. 較高的折射率：鉬的折射率較高，有利于提高薄膜生長的光學性能。

　　7. 較低的成本：相對于其他高溫材料，鉬的價格相對較低，選擇鉬作為隔熱屏材料可以降低生產成本。

　　綜上所述，金屬鉬在MOCVD頂層隔熱屏的應用中具有高溫穩(wěn)定性好、導熱性能好、耐腐蝕性強、熱膨脹系數適中、電性能優(yōu)異等優(yōu)點，同時還可以降低生產成本。