企業(yè)特殊行業(yè)經(jīng)營(yíng)資質(zhì)信息公示
點(diǎn)擊圖片查看原圖Aluminum Oxide（Al2O3），即氧化鋁靶材，作為一種高性能的高純?yōu)R射靶材材料，在薄膜制備領(lǐng)域展現(xiàn)出了其獨(dú)特的物理特性和廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。我司專注研發(fā)與生產(chǎn)，鑄就行業(yè)精品。所生產(chǎn)氧化物靶材 材料如下：
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OXIDES?氧化物 |
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Aluminum Oxide (Al2O3) |
Magnesium Oxide (MgO) |
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Antimony Oxide (Sb2O3) |
Zirconium-Magnesium Oxide(ZrMgO3) |
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Barium?Titanate?(BaTiO3) |
Magnesium-Zirconium Oxide (MgZrO3) |
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Bismuth Oxide (Bi2O3) |
Molybdenum Oxide (MoO3) |
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Bismuth?Titanate?(Bi2Ti4O11) |
Nickel-Chrome Oxide (CrNiO4) |
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Cerium Oxide (CeO2) |
Nickel-Cobalt Oxide（NiCoO2） |
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Cobalt-Chrome Oxide (CoCr2O4) |
Niobium?Pentoxide?(Nb2O5) |
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Chromium Oxide (Cr2O3) |
Rare Earth Garnets A3B2(SiO4)3 |
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Chromium Oxide (Eu?doped) |
Rare Earth Oxides (La2O3) |
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Gallium Oxide (Ga2O3) |
Silicon Dioxide (SiO2) |
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Germanium Oxide (GeO3) |
Silicon Monoxide (SiO) |
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Hafnium Oxide (HfO2) |
Tantalum?Pentoxide?(Ta2O5) |
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Indium Oxide (In2O3) |
Tin Oxide (SnO2) |
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Indium-Tin Oxide (ITO) |
Titanium Dioxide (TiO2) |
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Iron Oxide (Fe2O3) |
Tungsten Oxide (WO3) |
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Lanthanum Oxide(La2O3) |
Yttrium Oxide (Y2O3) |
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Lead?Titanate(PbTiO3) |
Yttrium-Aluminum Oxide (Y3Al5O12) |
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Lead?Zirconate?(ZrPbO3) |
Zinc Oxide (ZnO) |
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Lithium?Niobate?(LiNbO3) |
Zinc Oxide/Aluminum Oxide (Al2O3) |
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Lithium-Cobalt Oxide (CoLiO2) |
Zirconium Oxide (ZrO2) |
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一、氧化物(Al2O3)靶材特性：
1、首先，從純度方面來看，氧化鋁靶材的純度通常達(dá)到99.99%以上，甚至可達(dá)99.999%的極高純度。這種高純度確保了靶材在濺射過程中能夠提供穩(wěn)定且純凈的濺射源，從而制備出質(zhì)量**的薄膜。高純度還減少了雜質(zhì)對(duì)薄膜性能的影響，如電學(xué)性能、光學(xué)性能及化學(xué)穩(wěn)定性等，使得氧化鋁薄膜在多個(gè)領(lǐng)域中的應(yīng)用更加可靠和高效。
2、在密度方面，氧化鋁靶材的密度約為3.97~4.0g/cm3（真密度），這為其在濺射過程中提供了良好的穩(wěn)定性。高密度使得靶材在濺射時(shí)能夠保持均勻的濺射速率和薄膜厚度，從而提高了薄膜的均勻性和一致性。此外，高密度還賦予了氧化鋁薄膜優(yōu)異的機(jī)械性能和耐磨性，使其在需要高硬度、高耐磨性的應(yīng)用中表現(xiàn)出色。
3、熔點(diǎn)方面，氧化鋁的熔點(diǎn)高達(dá)2054°C，這一特性使得氧化鋁靶材能夠在高溫環(huán)境下保持穩(wěn)定，不易熔化或變形。這種高溫穩(wěn)定性對(duì)于需要高溫濺射或沉積工藝的應(yīng)用場(chǎng)景至關(guān)重要，如化學(xué)氣相沉積（CVD）等高溫工藝中。同時(shí)，高熔點(diǎn)也確保了氧化鋁薄膜在高溫環(huán)境下的穩(wěn)定性和耐久性，使得其在航空航天、能源存儲(chǔ)等極端環(huán)境中的應(yīng)用更加可靠。
三、行業(yè)應(yīng)用：
氧化鋁靶材展現(xiàn)出了廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，氧化鋁薄膜作為介電層、鈍化層或絕緣層，能夠顯著提高器件的性能和可靠性。其優(yōu)異的絕緣性能和穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)，使得氧化鋁薄膜成為制造高性能電容器、晶體管等微電子器件的理想材料。此外，在光學(xué)領(lǐng)域，氧化鋁薄膜被廣泛應(yīng)用于抗反射涂層、高反射涂層和透明導(dǎo)電膜等光學(xué)元件的制備中，提高了產(chǎn)品的光學(xué)性能和美觀度。在裝飾保護(hù)領(lǐng)域，氧化鋁薄膜因其良好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性，被用作家具、建筑材料等表面的裝飾和保護(hù)涂層，延長(zhǎng)了產(chǎn)品的使用壽命。
綜上所述，Aluminum Oxide（Al?O?）氧化鋁靶材以其高純度、高密度和高熔點(diǎn)等優(yōu)異特性，在半導(dǎo)體、光學(xué)、裝飾保護(hù)等多個(gè)領(lǐng)域中展現(xiàn)出了廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)和巨大的市場(chǎng)潛力。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展，氧化鋁靶材必將在更多領(lǐng)域中發(fā)揮重要作用。
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高純鋁AL濺射靶材99.999%??鍍膜材料磁控濺射靶99.99%鋁靶?及鋁靶綁定
鋁濺射靶材（Al）Aluminium?
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鋁（Al）的基本屬性
鋁是世界上最常見的金屬之一。它可以在廚房用具，汽車，路燈和流行的鋁箔食品包裝中找到。鋁是銀白色的金屬材料。在正常情況下，它是輕質(zhì)的，可延展的，可延展的且無磁性的。它的密度為2.7 g / cc，熔點(diǎn)為660°C，蒸氣壓為10?-4在1,010°C時(shí)托。盡管它不是一種堅(jiān)固的材料，但它還是熱和電的良導(dǎo)體，并且能夠形成耐腐蝕的氧化層。由于其高反應(yīng)性，它在自然界中很少作為游離元素被發(fā)現(xiàn)。在真空中蒸發(fā)時(shí)，鋁層會(huì)在望遠(yuǎn)鏡，汽車前照燈，鏡子，包裝和玩具上形成反射涂層。它廣泛用于航空航天，汽車照明，OLED和光學(xué)行業(yè)。
鋁（Al）規(guī)格
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材料類型 |
鋁 |
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符號(hào) |
Al |
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原子重量 |
26.9815386 |
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原子數(shù) |
13 |
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顏色/外觀 |
銀色，金屬 |
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導(dǎo)熱系數(shù) |
235瓦/米 |
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熔點(diǎn)（℃） |
660 |
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熱膨脹系數(shù) |
23.1 x 10-6 /千 |
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理論密度（g / cc） |
2.7 |
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Z比 |
1.08 |
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濺鍍 |
直流 |
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最大功率密度（瓦/平方英寸） |
150?* |
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綁定類型 |
銦，彈性體 |
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注釋 |
鎢/鉬/鉭合金?蒸發(fā)或使用BN坩堝。 |
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鋁（Al）及其他合金形式
鋁合金按化學(xué)成分可分為鋁硅合金AlSi，鋁銅合金AlCu，鋁鎂合金AlMg，鋁鋅合金AlZn和鋁稀土合金，其中鋁硅合金又有簡(jiǎn)單鋁硅合金（不能熱處理強(qiáng)化，力學(xué)性能較低，鑄造性能好），特殊鋁硅合金（可熱處理強(qiáng)化，力學(xué)性能較高，鑄造性能良好）。
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其他濺射靶材及蒸發(fā)顆粒有鋁銅合金，硅鋁合金，鋁硅銅合金，鈦鋁合金等。
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