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艾拓斯新材料科技(蘇州)有限公司 已通過實名認證

磁控濺射鍍膜靶材,PVD蒸鍍材料,高純貴金屬靶材,貴金屬及合金材料,陶瓷靶材,金屬氧...

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艾拓斯新材料科技(蘇州)有限公司

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    企業(yè)單位

  • 經(jīng)營模式:

    制造商,服務(wù)商

  • 榮譽認證:

        

  • 注冊年份:

    2018

  • 主     營:

    磁控濺射鍍膜靶材,PVD蒸鍍材料,高純貴金屬靶材,貴金屬及合金材料,陶瓷靶材,金屬氧化物多元合金靶材,鍍膜顆粒,日本濺射靶材,功能陶瓷鋰電池靶材,靶材鍵合綁定Bonding,進口ITO靶材,稀貴金屬回收業(yè)務(wù),金靶鉑靶,AZO旋轉(zhuǎn)靶,IGZO靶材,銠靶材,鎳鉻合金靶材

  • 地     址:

    江蘇省蘇州市東昌園

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供應(yīng)高純貴金屬黃金及金基合金濺射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必備材料
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產(chǎn)品: 瀏覽次數(shù):8544供應(yīng)高純貴金屬黃金及金基合金濺射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必備材料 
單價: 100.00元/件
最小起訂量: 1 件
供貨總量: 100 件
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 2 天內(nèi)發(fā)貨
有效期至: 長期有效
最后更新: 2025-05-07 14:41
  詢價
詳細信息
  • 品名:金礦
  • 含量:99999
  • 規(guī)格:任意
  • 用途:鍍膜
  • 產(chǎn)地:蘇州

供應(yīng)高純貴金屬黃金及金基合金濺射靶材Glod(Au)Targets科研及PVD必備材料


產(chǎn)品名稱:

高純黃金及金基合金濺射靶材

牌號規(guī)格:

Au01、Au1、AuGe12、AuGeNi11.5-5、AuGeNi12-4、Au80Sn20

用途備注:

金、金鍺、金鍺鎳等濺射靶材通過磁控濺射工藝沉積在半導(dǎo)體芯片如GaAs、GaP、GaN等表面,形成歐姆接觸膜、電極和連線膜??尚纬啥喾N金屬化膜系統(tǒng)。

?

產(chǎn) 品 詳 情

高純貴金屬金及合金是制造半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料。使用金靶材將金膜沉積在半導(dǎo)體芯片表面,形成歐姆接觸膜、電極和連線膜,可形成多種金屬化膜系統(tǒng)。該金屬氧化膜系統(tǒng)可大量應(yīng)用于制造發(fā)光二極管(LED), ???

軍用和民用微波通信器件,航天、航空等重要領(lǐng)域用半導(dǎo)體化合物以及芯片太陽能電池等領(lǐng)域。

化學成分

序號

合**號

主成分

Au

Ge

Ni

Ga

Be

1

Au1

≥99.99

?

?

?

?

2

Au01

≥99.999

——

——

——

——

3

Au88Ge

88±0.5

余量

——

——

——

4

Au83.5GeNi

83.5±0.5

余量

5±0.4

?

?

備注:可按客戶要求提供其它成分的產(chǎn)品。

外形尺寸(mm)

合**號

形狀

規(guī)格

允許偏差

厚度

允許偏差

Au1、Au01

圓形

100-250

±0.1

3~6

±0.2

方形

127×381

±1

3~6

±0.2

AuGe12、Au83.5GeNi、

圓形

100-250

±0.3

6

±0.5

方形

127×381

±1

6

±0.5

備注:可供其它規(guī)格和允許偏差的產(chǎn)品。

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,芯片靶材。

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